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Omni-ECL™单组分超灵敏化学发光底物(低飞克级)
Omni-ECL™单组分超灵敏化学发光底物(低飞克级)

Omni-ECL™单组分超灵敏化学发光底物(低飞克级)

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规格
20mL

本产品常温避光运输和保存,保质期12个月。

价格

¥198.00元

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产品简介

本产品是一款单组分、可常温储存的 Western blot HRP(辣根过氧化物酶)化学发光底物,无需预先混合 A/B 液,开瓶即可使用。

Omni-ECL™单组分超灵敏化学发光底物(以下简称 “化学发光底物”)采用增强型鲁米诺化学发光体系与稳定的过氧化物体系,具有低飞克级检测灵敏度,适用于低丰度目标蛋白的检测。在 HRP 催化下,底物发生氧化反应产生化学发光信号,可使用 CCD/CMOS 化学发光成像系统或 X 光片进行信号检测,实现转印膜上目标蛋白的可视化。

产品特点

  • 单一组分

    开瓶即用,免配液,减少配液损耗与交叉污染
  • 高灵敏度

    低飞克级检测灵敏度,低丰度目标蛋白亦可清晰检出
  • 常温保存

    常温稳定,免冷藏,储运便捷

使用说明

  • 1. 常规电泳、转膜及抗体孵育完成后,将转印膜从洗涤缓冲液中取出,沥去膜表面多余液体,并保持膜片湿润,避免膜片干燥;

    注:本品为 HRP 化学发光底物,检测体系需使用 HRP 标记抗体。
  • 2. 按约 0.1 mL/cm² 取适量化学发光底物,均匀覆盖于转印膜表面,确保底物与膜充分接触,室温孵育1~2 min;

    注意:对于预期信号较强的样品,可在加入化学发光底物后,将转印膜置于摇床上轻柔晃动孵育 1~2 min,使底物与膜充分、均匀接触,有助于减少局部底物消耗过快对检测结果的影响。
  • 3. 孵育完成后,取出转印膜,沥去膜表面多余底物;

  • 4. 曝光成像

    (1) CCD/CMOS 成像仪法:

    将化学发光底物孵育后的转印膜沥去多余液体,平整置于成像仪检测区域,按照仪器操作说明设置曝光参数并进行图像采集;

    (2) X 光片曝光法:

    将化学发光底物孵育后的转印膜沥去多余液体,用透明塑料膜等适宜材料平整包裹,避免产生气泡或褶皱。在暗室环境下,将包裹好的转印膜与 X 光片依次放入曝光暗盒中,使二者紧密贴合后进行曝光。曝光时间可根据目标信号强度进行调整,一般为数秒至数分钟。曝光完成后取出 X 光片进行显影,并可根据首次曝光结果适当调整曝光时间后重新曝光。
  • 5. 检测完成后,可对转印膜进行抗体剥离处理,并重新孵育抗体,以实现同一转印膜的重复检测。

注意事项

1. 本产品应避免强光照射,以免影响产品性能及检测灵敏度;

2. 本产品灵敏度很高,抗体浓度过高可能导致背景增强。建议根据样品及抗体情况优化抗体稀释比例,以获得最佳检测效果;

3. NaN3(叠氮化钠)可抑制 HRP 活性,使用 HRP 标记抗体进行检测时,应避免在相关试剂中使用 NaN3;

4. 操作全程请佩戴一次性手套、穿着实验服,注意实验防护;

5. 本产品仅限科研用途,不得用于临床。

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